被動：Z字驅動共振裝置
艾克的傷害型法術以及普通攻擊會增加目標身上的共振層數。同一目標受到三次攻擊後會觸發艾克的被動效果，造成額外的傷害並且減速。如果他在敵方英雄身上觸發了這個效果，那麽艾克還將額外獲得大量的移動速度加成。

Q：定時回轉裝置
艾克將一個裝置淹目標方向丟出，對路徑上的全部敵人造成傷害。當此裝置飛行到最大距離或遇到一名敵方英雄時，它會展開，變成一個可以減速所有敵方以及中立單位的區域。過一會兒，此裝置將回收並且飛行到艾克手中，對於路徑上的全部敵人造成額外的傷害。

W：平行收斂裝置
*被動：艾克的普通攻擊會對低生命值的目標造成額外傷害。
*主動：艾克在時間中打開一個裂縫，創造自己的複製並向目標區域丟出一個裝置。 一段延遲後，此裝置將展開變成很大的減速區域。如果艾克自己走進了這個區域，此裝置會爆破，艾克獲得一個護盾並且擊暈立場當中所有的敵人。

E：相位突擊
艾克朝目標位置突襲一段固定的距離。初始的突襲結束後，艾克下一次普通攻擊範圍將大幅提高，將其移動到目標位置造成傷害並且觸發法術和普攻附帶效果。

R：時空旋窩
艾克將時間倒回，暫時免疫一切傷害且無法被選中，之後再次以數秒前的狀態出現。再次出現後，艾克將回複前數秒內損失的部分生命，並對周圍所有的敵人造成大量傷害。